高真空離子濺射儀-GVC-2000T

GVC-2000T是一款容易操控的磁控離子濺射儀，為自動化技術鍍膜機給予市面上最好使用價值的商品。它被用于非導電性樣品的預備處理商品，以提升三維成像屏幕分辨率，樣品導電率，電子電荷降低并減少對比較敏感樣品的光線損害。

GVC-2000T高真空離子濺射儀集成化了 LCD 觸摸顯示屏操作界面，有利于實際操作。外界機械泵（隨附）可完成迅速真空泵，進而為大部分規范SEM剖析給予充足的涂層晶體規格。

GVC-2000T高真空泵離子鍍膜器是一種根據直流濺射基本原理將導電性原材料（如Pt-Pd，Pt，Au和Pd）涂敷到樣品表面上的設備。除此之外，非導電性樣品用以在透射電鏡下開展數據可視化，及其維護樣品表面免遭引入離子束的危害并幫助電子器件流動性。他們乃至可以作為塑料薄膜型電級的產生。

數據離子鍍膜機

真空泵鍍膜 — 點射觸摸鍍膜系統軟件，最大可達自然壓

涂層電流量意見反饋作用保證涂層平穩

選用低噪聲旋轉泵

可與多種多樣金屬材料靶材一起應用

在腔房間內以設置的真空泵情況在總體目標和樣品中間增加電流后，剩下的氣體分子結構變為等離子體（電離），并產生電子器件和離子。

除此之外，快速行駛的離子和電子器件與汽體分子結構撞擊，在其中電離根據抵觸分子結構的電子器件來加快電離。接著的離子在方向的負極一部分撞擊并碰撞總體目標顆粒物，使原材料的顆粒物撞擊并融合產生涂層。