科技驅動技術
Innovation-driven technology
GVC-2000T是一款容易操控的磁控離子濺射儀，為自動化技術鍍膜機給予市面上最好使用價值的商品。它被用于非導電性樣品的預備處理商品，以提升三維成像屏幕分辨率，樣品導電率，電子電荷降低并減少對比較敏感樣品的光線損害。GVC-2000T高真空離子濺射儀集成化了 LCD 觸摸顯示屏操作界面，有利于實際操作。外界機械泵（隨附）可完成迅速真空泵，進而為大部分規范SEM剖析給予充足的涂層晶體規格。GV...
直流濺射鍍膜裝置是由陰極與陽極組成的，顧名思義，采用直流電，又因為是在陰極的靶上加副高壓，所以又叫陰極濺射。直流濺射的靶材是導體，放電的工作氣體是氬氣，現在以直流二極濺射為例來討論其原理和過程。它的基本工作條件是為陰極靶提供正離子轟擊。由于陰極暗區有幾乎全部極間的電位差，正離子以高速轟擊陰極靶時，從靶面上發出的二次電子進入陰極暗區，被加速，在其被加速有一定能量后，又被稱為一次電子。一次電子在...
使用離子濺射儀要獲得高質量的膜層，膜與樣品基體的結合力必須牢固，即膜層對樣品基體的附著力必須大。影響附著強度的因素有很多。提高附著強度的方法主要有以下5種。
用荷能粒子負電子固態表面時，固態表面原子遭受荷能粒子撞擊，有可能得到充足的動能和角動量，并從表面逸出，這類當場稱之為濺射。濺射鍍膜是用荷能粒子負電子固態濺射靶材，使濺射靶材原子濺射出去并堆積到基材表面產生塑料薄膜的鍍膜技術性。交流電二...
離子濺射工作原理：直流冷陰極二極管式，靶材處于常溫，加負高壓1-3kv，陽極接地。當接通高壓，陰極發射電子，電子能量增加到1-3kev，轟擊低真空中（3-10pA)的氣體，使其電離，激發出的電子在電場中被加速，繼續轟擊氣體，產生聯級電離，形
噴金儀通過離子濺射的方法來使實現在物體表面濺射一層金屬薄膜，根據原理的不錯呦直流離子濺射、磁控離子濺射和離子束濺射幾種，噴金儀是是掃描電子顯微鏡實驗室必備的樣品制備工具，公司專業研發設計生產小型噴金儀，服務于國內各大高校，科研院所和企...
用于制作和粘貼掃描電鏡樣品的主要工具相比透射電鏡所需要的的工具要簡單的多，常用的工具朱啊喲有樣品盒、洗耳球、棉簽、單面刀片、斜口鉗、砂紙、長纖維的無塵紙、小銼刀、不同規格的鑷子和剪刀，最好配一盞帶有放大鏡的臺燈，一臺體視顯微鏡用于觀察試...
離子濺射儀是目前在真空條件下應用的比較廣泛的真空鍍膜設備，在電極樣品制備中是一個重要的應用領域，真空的鍍膜技術比較的多，應用的方法也不盡形同，有通過離子濺射儀不同的金屬制備催化劑的，也有通過濺射的方式制備薄膜涂層的，同時在掃描電鏡中的應...
掃描電鏡的整套設備是由電子槍、電磁透鏡、樣品倉和真空系統、控制電路，以及控制計算機和外圍輔助設施等部件組裝而成的。用戶在維護時通常要清洗和保養的主要部位是電子槍、鏡筒和真空系統的真空泵等，若是鎢燈絲掃描電鏡，電子槍柵極到陽極區間是受鎢陰...
對于放置電子顯微鏡的實驗室而言，是有很多種因素來影響實驗室的環境的，通常有以下幾個方面：振動、磁場、噪音主要是有這三個方面會對電鏡的圖像產生干擾，影響圖像的效果。其實我們可以通過電鏡圖像判斷是那種因素在進行干擾是很困難的，不過我們是可以通過研究干擾畫面的特征點，能夠得到一些判斷，然后在通過專用的測量儀器對干擾性進行確定。
電子顯微鏡對振動和外來雜散磁場的干擾要求比較嚴格，所以選擇安裝地點最重要的關注這兩個方面，首先要減少外來振動的干擾，電鏡實驗室應盡量遠離電梯間和大型設備，其次為減少外來磁場的干擾，電鏡實驗室應盡量遠離電站和配電間，以及大功率的用電設備。...
Microhezao系列離子濺射儀，它的真空系統是由小型真空泵組成，能提供良好的真空濺射鍍膜環境，真空度可達0.1Pa。全自動控制，只要一鍵操作就可以自動完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程。儀器選用離子濺射鍍金屬膜，滿足高分辨率場發射電鏡...
對于導電性不好的試樣，我們通?？梢赃x擇離子濺射儀鍍膜處理。通常情況我們選擇鍍金Au膜，如果對分辨率有較高的要求，可以選擇鍍鉑Pt、鉻Cr、銥Ir。如果要對樣品進行嚴格的EDS定量分析，則不能鍍金屬膜，因為金屬膜對X射線有較強的吸收，對定...
冷鑲嵌樹脂是不通過加溫的手段對樣品進行包埋的鑲嵌材料，常見的是使用雙組分混合的常溫固化樹脂和功能性填充物的混合物，冷鑲嵌常用于對溫度或者壓力敏感的樣品材料。 禾早科技可以為您提供三種冷鑲嵌的選擇： 慢速冷環氧樹脂： 高滲透性，發熱量...
離子濺射儀為掃描電子顯微鏡（SEM）最基本的樣品制備儀器，在一些情況下，通過使用離子濺射儀可以幫助SEM獲得更好的圖像及特征點。 SEM基本上是可以對所以類型的試樣進行圖像處理，粉末，半導體，高分子材料，陶瓷，金屬，地質材料，生物樣品...
我公司為客戶提供專業電鏡快速維修服務技術支持，并提供SEM及附件等周邊設備耗材及配件。常用耗材如下：SEM:場發射燈絲，鎢燈絲，孔片，光闌，導電膠帶，樣品臺燈。能譜儀：EDX維修，校準，標樣等。離子濺射儀:各品牌離子濺射儀維修，配件，靶...
桌面主動減震臺為K&S advance systems公司研發設計生產專注于主動隔振系統，并以其專利體系架構先進的技術和優良隔振效果，確立其在該領域的領先地位。 ARIS TT系列主動減震臺，顯著降低或屏蔽周邊振動源對精密分析儀器的影...
K&S Advanced systems 生產研發設計的MD300主動減震臺能讓您更有信心去做研究分析實驗。您使用一套適合您的掃描電鏡來進行您的分析實驗的工作，讓我們的主動減震臺幫助您得到更加完美的試樣結果。 您已經在制樣中投入了很多的精...
以色列ks公司生產的主動減震臺主要分為Aris模塊化系列和TT平面化系列，Aris系列運用于緊湊的模塊化或或或或或產品解決方案，可以支持8臺主動減震臺模塊，其負載能力可以驚人高達4000kg，而主動減震臺的尺寸可以做到270×210×7...
掃描控制器和數據采集接口是進行質量定量EBIC測量的最大因素。我們的系統非常適合在現場進行實驗，而應用的應用遠遠超...
